随着半导体工业的迅猛发展,对超纯水的要求和标准也在不断提升。特别是在制造集成电路时,即使是几个金属离子或灰尘颗粒也足以导致整个电路报废。因此,作为半导体工业中重要的电子化学试剂之一,超纯水的生产制备越来越受到重视。
目前,在市场上常见的超纯水工艺中,传统的离子交换工艺逐渐被反渗透工艺所取代。这是因为反渗透工艺无需树脂再生,能够实现24小时连续产水,并且在制水过程中不会产生废酸、废碱等有害排放物。
金年会上海水处理公司致力于为用户提供高品质的超纯水解决方案,有效解决了传统超纯水生产过程中能耗大、步骤繁琐、成本高、产品纯度低以及质量不稳定等问题。通过采用简洁高效的生产工艺流程,实现了连续大规模生产,同时保证了处理效率高、配置合理有效,并具备显著的经济性和环保优势。
超纯水设备
工艺流程:
利用超滤膜去除水中的悬浮物及部分有机物,反渗透系统去除大部分溶解性固体,提高水质纯净度; TOC装置用于去除水中残留的有机碳化合物;EDI系统深度脱盐并去除微量离子;氮封系统通过充入氮气防止空气中的污染物进入系统;靶向离子交换可以针对难以去除的特定离子如硼进行定向吸附;终端过滤确保出水无任何微粒污染。
其中,金年会特别设计了独特的靶向离子交换系统,专门针对超纯水中难以处理的硼离子等进行高效去除,保证出水中的硼离子浓度稳定低于5ppt。整套系统集成度非常高,配备了双操作系统以增强稳定性。这使得即使是在长时间运行条件下也能保持高纯度超纯水的持续稳定产出,而无需因树脂再生等原因停机维护。此外,设备日常保养简便易行,具有较长的使用寿命。
总之,金年会凭借其创新的技术方案和卓越的产品性能,在推动半导体及相关领域向着更加高效、绿色的方向发展方面发挥着重要作用。
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编辑:虞美人 技术:木子